Hybrid Bonding 中的 Hybrid 是指除了在室温下凹陷下去的铜 bump 完成键合,两个 Chip 面对面的其它非导电部分也要贴合。因此,Hybrid Bonding 在芯粒与芯粒或者 wafer 与 wafer 之间是没有空隙的,不需要用环氧树脂进行填充。
援引媒体报道,三星电子和 SK 海力士等主要公司已经克服这些挑战,扩展了 TCB 和 MR 工艺,实现最高 12 层。
报道称采用 Hybrid Bonding 工艺之后,显著提高了输入 / 输出(IO)吞吐量,允许在 1 平方毫米的面积内连接 1 万到 10 万个通孔(via)。